ಸೋಡಿಯಂ ಮೆಟಾಸಿಲಿಕೇಟ್ ಪೆಂಟಾಹೈಡ್ರೇಟ್‌ನ ಉತ್ಪಾದನಾ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ

ಸೋಡಿಯಂ metasilicate ಪೆಂಟಾಹೈಡ್ರೇಟ್ ಉತ್ಪಾದನಾ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ

ಸೋಡಿಯಂ ಮೆಟಾಸಿಲಿಕೇಟ್‌ನ ಸಂಶ್ಲೇಷಣೆಯ ವಿಧಾನಗಳಲ್ಲಿ ಸ್ಪ್ರೇ ಒಣಗಿಸುವ ವಿಧಾನ, ಕರಗುವ ಘನೀಕರಣದ ಸ್ಫಟಿಕೀಕರಣ ವಿಧಾನ, ಒಂದು-ಬಾರಿ ಗ್ರ್ಯಾನ್ಯುಲೇಷನ್ ವಿಧಾನ ಮತ್ತು ಪರಿಹಾರ ಸ್ಫಟಿಕೀಕರಣ ವಿಧಾನ ಸೇರಿವೆ.

ಸ್ಫಟಿಕೀಕರಣ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯು ಕಡಿಮೆ ಸಲಕರಣೆಗಳ ಹೂಡಿಕೆ, ಕಡಿಮೆ ಉತ್ಪಾದನಾ ವೆಚ್ಚ ಮತ್ತು ಸ್ಥಿರ ಗುಣಮಟ್ಟದ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ. ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಹರಿವನ್ನು ಈ ಕೆಳಗಿನಂತೆ ತೋರಿಸಲಾಗಿದೆ

2.1 ಸ್ಫಟಿಕ ಸಾಂದ್ರತೆಯ ಪರಿಣಾಮ

ಸೋಡಿಯಂ ಮೆಟಾಸಿಲಿಕೇಟ್ ಪೆಂಟಾಹೈಡ್ರೇಟ್ ಅನ್ನು ದ್ರಾವಣ ಸ್ಫಟಿಕೀಕರಣ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಿಂದ ತಯಾರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಹಂತದ ರೇಖಾಚಿತ್ರದ ಪ್ರಕಾರ [3], ಅದರ ಸ್ಫಟಿಕೀಕರಣ ದ್ರಾವಣದ (Na2O+SiO2) ಸಾಂದ್ರತೆಯನ್ನು ಎಲ್ಲಿಯವರೆಗೆ ನಿಯಂತ್ರಿಸಬೇಕು

ಸೋಡಿಯಂ ಮೆಟಾಸಿಲಿಕೇಟ್ ಪೆಂಟಾಹೈಡ್ರೇಟ್ ಅನ್ನು 25%~28% (ದ್ರವ್ಯರಾಶಿ) ವ್ಯಾಪ್ತಿಯಲ್ಲಿ ಉತ್ಪಾದಿಸಬಹುದು. ಆದಾಗ್ಯೂ, ದ್ರಾವಣದಲ್ಲಿ ಸಾಕಷ್ಟು N a2O ಮತ್ತು SiO 2 ಇವೆ

ಸಂಖ್ಯೆಯು ಪರಸ್ಪರ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತದೆ. 8i02 ರ ದ್ರವ್ಯರಾಶಿಯ ಭಾಗವು ಹೆಚ್ಚು, ಸ್ಫಟಿಕೀಕರಣದ ಅವಧಿಯು ದೀರ್ಘವಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ನೇರವಾಗಿ ಬಳಸಲಾದ n (Na2O)/n (SiO2) ನ ಸರಣಿ ಅನುಪಾತವು 1 ಆಗಿದೆ,

58% ದ್ರವ್ಯರಾಶಿಯನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ದ್ರಾವಣವನ್ನು ಸ್ಫಟಿಕೀಕರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಸ್ಫಟಿಕ ಬೀಜವನ್ನು ಸೇರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಸ್ಫಟಿಕೀಕರಣ ಚಕ್ರವು 72~120ಗಂ ತೆಗೆದುಕೊಳ್ಳುತ್ತದೆ; Na2O ನ ಹೆಚ್ಚಿನ ವಿಷಯ

ವೇಗವು ವೇಗವಾಗಿರುತ್ತದೆ, ಆದರೆ ವೇಗವಾದ ಸ್ಫಟಿಕೀಕರಣದ ವೇಗವು ಸೂಕ್ಷ್ಮವಾದ ಸ್ಫಟಿಕ ಕಣಗಳನ್ನು ಉಂಟುಮಾಡುವುದು ಸುಲಭ, ಸ್ಫಟಿಕದ ಬೆಳವಣಿಗೆಯಿಂದ ಹೆಚ್ಚು Na2O ಒಳಗೊಳ್ಳುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಉತ್ಪನ್ನ ಮಾಡ್ಯುಲಸ್ ಅನ್ನು ತಲುಪಲು ಕಷ್ಟವಾಗುತ್ತದೆ.

ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳಿಗಾಗಿ, ಕೋಷ್ಟಕ 1 ನೋಡಿ.

2.2 ಬೀಜ ಪರಿಣಾಮ

ಸೋಡಿಯಂ ಮೆಟಾಸಿಲಿಕೇಟ್‌ನ ಸ್ಫಟಿಕೀಕರಣ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ, ಸ್ಫಟಿಕದ ಗುಣಮಟ್ಟವನ್ನು ನಿಯಂತ್ರಿಸಲು ಮತ್ತು ಏಕರೂಪದ ಕಣದ ಗಾತ್ರದೊಂದಿಗೆ ಉತ್ಪನ್ನಗಳನ್ನು ಪಡೆಯಲು

ಸರಿಯಾದ ಕಣದ ಗಾತ್ರ ಮತ್ತು ಪ್ರಮಾಣದೊಂದಿಗೆ ಸ್ಫಟಿಕ ಬೀಜಗಳನ್ನು ಸೇರಿಸಿ ಮತ್ತು ಸಂಪೂರ್ಣ ದ್ರಾವಣದಲ್ಲಿ ಸ್ಫಟಿಕ ಬೀಜಗಳನ್ನು ಹೆಚ್ಚು ಸಮವಾಗಿ ಅಮಾನತುಗೊಳಿಸಲು ಸಂಪೂರ್ಣ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ನಿಧಾನವಾಗಿ ಬೆರೆಸಿ.

ದ್ವಿತೀಯ ನ್ಯೂಕ್ಲಿಯೇಶನ್ ಪ್ರಮಾಣವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡಿ, ಇದರಿಂದ ಸ್ಫಟಿಕೀಕರಿಸಿದ ವಸ್ತುವು ಸ್ಫಟಿಕ ಬೀಜದ ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ ಮಾತ್ರ ಬೆಳೆಯುತ್ತದೆ.

ಬೀಜದ ಸ್ಫಟಿಕದ ಪ್ರಮಾಣವು ಉತ್ಪನ್ನದ ಗುಣಮಟ್ಟ, ವೈವಿಧ್ಯತೆ ಮತ್ತು ಕಣದ ಗಾತ್ರವನ್ನು ಅವಲಂಬಿಸಿರುತ್ತದೆ, ಅದು ಸಂಪೂರ್ಣ ಸ್ಫಟಿಕೀಕರಣ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ಮತ್ತು ಬಯಸಿದ ಉತ್ಪನ್ನದ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಸ್ಫಟಿಕೀಕರಣಗೊಳ್ಳಬಹುದು.

ಗ್ರ್ಯಾನ್ಯುಲಾರಿಟಿ. ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ಯಾವುದೇ ಪ್ರಾಥಮಿಕ ನ್ಯೂಕ್ಲಿಯೇಟಿಂಗ್ ಬೀಜವು ಉತ್ಪತ್ತಿಯಾಗುವುದಿಲ್ಲ ಎಂದು ಭಾವಿಸಿದರೆ, ಸಿದ್ಧಪಡಿಸಿದ ಉತ್ಪನ್ನದಲ್ಲಿನ ಕಣಗಳ ಸಂಖ್ಯೆಯು ಹೊಸದಾಗಿ ಸೇರಿಸಲಾದ ಕೃತಕ ಬೀಜ ಕಣಗಳ ಸಂಖ್ಯೆಗೆ ಸಮಾನವಾಗಿರುತ್ತದೆ.

Mp/KvpLp3=Ms/KvLs3P, ನಂತರ M s=Mp (Ls/Lp) 3

ಎಲ್ಲಿ: M s, M p —— ಸ್ಫಟಿಕ ಬೀಜ ಮತ್ತು ಸಿದ್ಧಪಡಿಸಿದ ಉತ್ಪನ್ನದ ಗುಣಮಟ್ಟ; Ls, Lp —- ಸ್ಫಟಿಕ ಬೀಜ ಮತ್ತು ಸಿದ್ಧಪಡಿಸಿದ ಉತ್ಪನ್ನದ ಸರಾಸರಿ ಕಣ ಗಾತ್ರ; ಕೆ ವಿ, ಪಿ ಮೆಟಾಸಿಲಿಸಿಕ್ ಆಮ್ಲ

ಸೋಡಿಯಂನ ಭೌತಿಕ ಆಸ್ತಿ ಸ್ಥಿರ.

ಸೋಡಿಯಂ ಮೆಟಾಸಿಲಿಕೇಟ್ ಜಲೀಯ ದ್ರಾವಣದ ಸ್ಫಟಿಕೀಕರಣ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗೆ, ಸ್ಫಟಿಕ ಹಂತದ ಪರಿವರ್ತನೆಯ ವಿಶ್ಲೇಷಣೆಯ ಪ್ರಕಾರ, ಅದರ ಮೆಟಾಸ್ಟೇಬಲ್ ವಲಯದ ಕಿರಿದಾದ ಅಗಲದಿಂದಾಗಿ, ಪ್ರವೇಶಿಸಲು ಸುಲಭವಾಗಿದೆ.

ಅಸ್ಥಿರ ಪ್ರದೇಶದಲ್ಲಿ, 0.1-0.2 ಮಿಮೀ ಕಣದ ಗಾತ್ರವನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಬೀಜಗಳನ್ನು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಸೇರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಸಿದ್ಧಪಡಿಸಿದ ಉತ್ಪನ್ನದ ಸರಾಸರಿ ಕಣದ ಗಾತ್ರವು 1 ಮಿಮೀ ಇರಬೇಕಾದರೆ ಅನಿವಾರ್ಯವೆಂದು ಪರಿಗಣಿಸಿ

0.1 ಮೀ ಸ್ಫಟಿಕ ಬೀಜಗಳನ್ನು ವಾಸ್ತವವಾಗಿ ಸೇರಿಸಿದಾಗ ಮುಕ್ತ ದ್ರಾವಣದ ನ್ಯೂಕ್ಲಿಯೇಶನ್ ಪ್ರಮಾಣವು ದ್ರವ್ಯರಾಶಿಯ 40%~60% ಆಗಿದೆ

2.3 ತಾಪಮಾನ ನಿಯಂತ್ರಣ ಪ್ರಭಾವ

ಸೋಡಿಯಂ ಮೆಟಾಸಿಲಿಕೇಟ್ ಪೆಂಟಾಹೈಡ್ರೇಟ್‌ನ ಸ್ಫಟಿಕೀಕರಣ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯು ತಾಪಮಾನಕ್ಕೆ ಸಂವೇದನಾಶೀಲವಾಗಿರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಅದರ ಸ್ಫಟಿಕದ ಬೆಳವಣಿಗೆಯು ಇಂಡಕ್ಷನ್ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಮೂಲಕ ಹೋಗಬೇಕಾಗುತ್ತದೆ, ಇದನ್ನು 50-60 ℃ ನಡುವೆ ಅಳವಡಿಸಿಕೊಳ್ಳಲಾಗುತ್ತದೆ.

ಸ್ಫಟಿಕ ಬೀಜಗಳನ್ನು ದ್ರಾವಣಕ್ಕೆ ಸೇರಿಸುವ ಮೂಲಕ ಸ್ಫಟಿಕ ನ್ಯೂಕ್ಲಿಯಸ್ಗಳ ಒಟ್ಟು ಪ್ರಮಾಣವನ್ನು ನಿಯಂತ್ರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ನಂತರ ಸ್ಫಟಿಕವು ತುಲನಾತ್ಮಕವಾಗಿ ಸ್ಥಿರವಾದ ತಾಪಮಾನ ಮತ್ತು ಅತಿಸೂಕ್ಷ್ಮತೆಯ ಅಡಿಯಲ್ಲಿ ಏಕರೂಪದ ದರದಲ್ಲಿ ಬೆಳೆಯುತ್ತದೆ. ಸ್ಫಟಿಕೀಕರಣದ ನಂತರದ ಹಂತದಲ್ಲಿ, ಸ್ಫಟಿಕವು ವೇಗವಾಗಿ ಬೆಳೆಯುವಂತೆ ಮಾಡಲು ಪ್ರತಿ ನಿಮಿಷಕ್ಕೆ 1 ℃ ದರದಲ್ಲಿ ತಣ್ಣಗಾಗಿಸಿ ಮತ್ತು 38-48 ℃ ತಲುಪಿದಾಗ ವಸ್ತುವನ್ನು ಪ್ರತ್ಯೇಕಿಸಿ.

2.4 ಇತರ ಸೇರ್ಪಡೆಗಳ ಪರಿಣಾಮ

ಬೇರ್ಪಡಿಸುವ ಕಾರ್ಯಾಚರಣೆಯ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಉಚಿತ ನೀರು ಮತ್ತು ಸ್ಫಟಿಕವನ್ನು ಬೇರ್ಪಡಿಸಲು ಅನುಕೂಲವಾಗುವಂತೆ, ಒಟ್ಟು ಮೊತ್ತದ 0.005% ~ 0.015% ಅನುಪಾತವನ್ನು ತಂಪಾಗಿಸುವ ಅಂತ್ಯದ ಮೊದಲು 0.5 ಗಂಟೆ ತೆಗೆದುಕೊಳ್ಳಬೇಕು.

ಸ್ಫಟಿಕ ಮತ್ತು ನೀರಿನ ನಡುವಿನ ಮೇಲ್ಮೈ ಒತ್ತಡವನ್ನು ಡೋಡೆಸಿಲ್ ಸಲ್ಫೋನಿಕ್ ಆಸಿಡ್ ಸರ್ಫ್ಯಾಕ್ಟಂಟ್ ಅನ್ನು ಒಮ್ಮೆ ಸೇರಿಸುವ ಮೂಲಕ ಕಡಿಮೆ ಮಾಡಬಹುದು, ಇದು ಆರ್ದ್ರ ಮಾದರಿಯನ್ನು ಮುಕ್ತಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ

ಒಣಗಿಸುವಿಕೆ ಮತ್ತು ಶೇಖರಣೆಗಾಗಿ ನೀರು 4% ಕ್ಕಿಂತ ಕಡಿಮೆಯಾಗಿದೆ